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在工業生產中,如何讓惰性的塑料粘得更牢?如何讓光滑的玻璃印上清晰的圖文?這些看似簡單的訴求,背后都指向一個共同的關鍵設備——等離子處理機。它如同一位精通“表面魔...
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在材料科學、半導體制造或生物醫學工程領域,研究人員常面臨一個棘手問題:材料表面存在肉眼不可見的污染物,如油脂、氧化層或有機殘留,這些“隱形污漬”會影響后續的粘接、鍍膜或封裝質量。一種名為臺式真空等離子清洗機的設備,正成為解決此類問題的常用工具。它體型小巧,卻能在真空環境下利用等離子體實現表面清潔與活化,如同一位精密的表面“魔術師”。這種設備的工作原理建立在等離子體技術之上。等離子體是物質除固態、液態、氣態外的第四種狀態,通過在高真空環境中施加電場,使工藝氣體(如氧氣、氬氣)電...
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等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。


等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除,以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。

改善粘合力-用于光學元件、生物醫學、封裝領域等;
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等,增強表面粘附性、浸潤性、相容性;
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。

等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式,其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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